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ModStartCMS v4.8.0 昵称功能增强，内容公式支持_模块_后台_我的网站

一 |     

原标题：ModStartCMS v4.8.0 昵称功能增强，内容公式支持ModStart 是一个基于 Laravel 模块化极速开发框架。模块市场拥有丰富的功能应用，支持后台一键快速安装，让开发者能快的实现业务功能开发。    　　当地时间8月23日，半导体行业研究机构SemiAnalysis发文称，NAND闪存制造正从钨转向钼，因为当NAND来到300层以上，钼是必选项。　　SemiAnalysis分析，3D NAND闪存堆叠层数突破300层后，钨字线在电阻、化学兼容性和深孔填充三方面均触及物理极限，钼成为强制替代材料。三星已于2024年量产，美光2025年跟进，SK海力士计划2026年底推出375层钼工艺产品。系统完全开源，基于 Apache 2.0 开源协议，免费且不限制商业使用。功能特性

• 丰富的模块市场，后台一键快速安装
• 会员模块通用且完整，支持完整的API调用
• 大文件分片上传，进度条显示，已上传文件管理
• 强大的模块扩展功能，所有模块可以无缝集成，支持在线安装、卸载模块
• 完善的开发助手，实现模块、主题的的一键创建
• 完善的后台权限管理，支持基于RBAC的权限管理系统
• 后台管理支持使用手机、平板、PC，无论何时何地都可方便管理
• 第三方登录（QQ、微信、微博、支付宝、微信小程序）
• 第三方支付支持（微信、支付宝、支付宝当面付、微信扫码、微信小程序）
• 第三方云存储支持，支持云储存分片上传（阿里云、百度云、华为云、腾讯云、FTP、七牛云、UCloud、又拍云）
• 第三方短信支持（阿里云、腾讯云、华为云、百度云、253云通讯、聚合、七牛云、融云、赛邮、UCloud、云片、网易云）

V4.8.0版本更新2022年09月14日ModStartCMS发布v4.8.0版本，增加了以下8个特性：

• [新功能] 用户钱包充值接口功能
• [新功能] 手机快捷注册自动设置用户名和昵称
• [新功能] 富文本过滤图片新增data-formula-image属性
• [新功能] 用户VIP开通赠送积分功能开启
• [新功能] 授权登录绑定手机和邮箱可配置
• [系统优化] 配置函数根据默认值类型自动推断
• [系统优化] 用户VIP开通支付实现方式
• [Bug修复] 后台用户状态修改失败问题

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二 | 　　更进一步的，该机构提出，钼沉积设备将在明年迎来超10亿美元的新增市场。　　该机构称，每一次从钨到钼的转换，都意味着需要新的沉积设备。SemiAnalysis估计，仅2027年一年，NAND钼沉积设备的销售额就将超过10亿美元，并随着DRAM和逻辑芯片的跟进，到2030年增长至约20亿美元/年。　　受益格局方面，Lam Research（泛林集团）最先获益，TEL（东京电子）紧随其后；AMAT（应用材料）、ASMI（ASM国际）及Naura（北方华创）则更多受益于后续DRAM和逻辑芯片的转型浪潮。

三 | SemiAnalysis表示，完整的细分市场层面测算已纳入其前道设备（WFE）模型。　　钼渗透率在高层数NAND中提升，本质是为延续NAND单位Bit成本下降曲线。　　300层NAND主要在结构上升级，聚焦超高深宽比通道孔刻蚀、多次Stack堆叠、晶圆翘曲控制以及Overlay精度控制。　　375层乃至400层以后，材料亟需升级，因钨字线会因为字线间距通道孔缩小面临RC延迟快速恶化、WF残氟导致介质损伤、漏电失效率提升以及填充缺陷放大的问题。而钼凭借更低电阻率、无氟前驱体及无需阻隔层等优势，有望改善RC性能与器件可靠性，为字线和存储孔缩放提供工艺余量，从而延续高层数NAND的成本下降曲线。

四 | 　　中银证券表示，SK海力士已完成375层3D NAND生产验证并计划2026年底量产，拟采用钼材料替代钨制作字线，继三星在286层第九代3D NAND中率先导入钼工艺后，两大存储龙头相继切换，钼替代钨趋势确立。

五 | 　　然而，钼的材料加工更为复杂，因为必须以气体形式输送，且前驱物在室温下为固体，需要加热器以确保流动稳定性。　　基于此，300层以上3D NAND字线由钨切换为钼，并不是简单更换靶材或者更换气体材料，而是前驱体供给、ALD沉积腔体、刻蚀、清洗、尾气处理整套工艺链条的重构，原有钨CVD产线硬件无法直接复用，将直接推动晶圆厂资本开支上行，同时设备、特种材料、零部件均迎来变化。　　爱建证券表示，钼导入本质是一次全流程工艺重构，设备链受益有望沿“沉积及前驱体输送→CMP及清洗→刻蚀→量检测”路径传导，工艺难点由沉积向后处理环节延伸。

六 | 其中——　　沉积：成熟的WF钨工艺，Mo沉积需重新建立高深宽比结构下的填充与缺陷控制工艺窗口，同时有望减少阻隔层使用，带动沉积设备及配套工艺升级；　　输送：Mo前驱体通常采用低挥发性固态源，与传统WF气态前驱体体系差异较大，需要新增气化装置、温控管路及精密供气系统，以保障前驱体稳定输送；　　CMP：Mo材料的氧化及表面化学特性不同于传统金属体系，需重新开发CMP研磨液和研磨垫，以满足平坦化、去除速率及缺陷控制要求；　　清洗：Mo导入后残留物及氧化物体系发生变化，高深宽比结构下金属残留和污染控制难度提升，有望推动相关湿法清洗设备及配套化学品验证导入；　　刻蚀环节则需重新建立适配钼材料的工艺窗口，且3DNAND层数持续提升下，刻蚀选择性、侧壁形貌控制及层间均匀性要求进一步提高，有望带动相关刻蚀设备升级需求；　　量检测：Mo量产还需新增膜厚均匀性、填充缺陷、金属残留及电学可靠性等监控项目，有望带动薄膜量测、缺陷检测及电性测试等设备需求增长。　　该机构称，NAND工艺迭代核心从单纯堆叠层数转向材料—设备—工艺协同创新，新材料导入将持续催生沉积、刻蚀、清洗等关键设备迭代升级，Mo字线导入将推动沉积、刻蚀、清洗等关键环节工艺升级，相关设备及零部件厂商有望受益。（文章来源：科创板日报）。

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Published on:11:00:43